プログラム情報
| プログラム名 | 半導体CMOS実践プログラム |
|---|---|
| 説明 | クリーンルームでのCMOS作製を通じて代表的な半導体デバイス（CMOS）の基礎知識を習得します。 |
| 対象 | 一般社会人 (主に半導体業界)、半導体関連を学ぶ学生
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| 講師 | 広島大学、マイクロン社で、半導体デバイスに関する技術基礎の経験がある専門家および教員
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| 目的 | ・代表的な半導体デバイス (CMOS) の基礎知識獲得
・クリーンルームでCMOS作製を経験 ・様々なCMOSデバイスの設計と特性評価を実習 |
| 内容 | ・期間：3–6日 (Web参加は3日間)
・半導体デバイス・CMOS基礎、クリーンルーム安全講義、作製プロセス講義 ・CADを用いたCMOSデバイス設計 ・クリーンルームでのCMOS作製 ・CMOSデバイス特性測定 ・実習内容レポート作成 |
| 連絡事項 | |
| 実施日数 | 5 日 |
| 受講料 | (未定) |
スケジュール
| 日 | 時間 | 内容 | 場所 |
|---|---|---|---|
| 1 | 08:45 ～ 10:15 | 実習内容紹介、安全講習 |
半導体産業技術研究所 (Jイノベ棟1F) |
| 1 | 10:30 ～ 17:50 | CMOS回路設計 |
半導体産業技術研究所 (クリーンルーム) |
| 2 | 08:45 ～ 17:50 | CMOS回路作製 |
半導体産業技術研究所 (クリーンルーム) |
| 3 | 08:45 ～ 17:50 | CMOS回路作製 |
半導体産業技術研究所 (クリーンルーム) |
| 4 | 08:45 ～ 17:50 | CMOS回路作製 |
半導体産業技術研究所 (クリーンルーム) |
| 5 | 08:45 ～ 17:50 | 作製後のCMOSの特性測定 |
半導体産業技術研究所 (Jイノベ棟２F) |
受講情報
| 期名 | 受講期間 | 募集数 | 応募数 | 募集期間 | 申し込み |
|---|---|---|---|---|---|
| 2025年度 | 2026年2月24日（火）‐28日（土）5日間 | 16 | 0 | 2025/12/01 ～ 2026/01/26 | 申込 |
