1989年に西棟、1999年に東棟に設置されたスーパークリーンルームは、面積864㎡。「最も洗浄度の高いセクションのクリーン度はクラス10(1立方フィート内に0.5μm以上の粒子が10個以下)」で、国内最高レベルの環境のもとで半導体デバイスの設計・作成・評価が一貫して可能な教育研究用としては数少ない施設です。